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愛德華STP603愛德華STP603真空泵
【簡單介紹】
【詳細說明】
應用
· 金屬(鋁)、鎢和電介質(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
· 電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
· 薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
· 濺射
· 離子注入源,射束線泵送端點站
· MBE
· 擴散
· 光致抗蝕劑脫模
· 晶體/晶膜生長
· 晶片檢查
· 負載鎖真空腔
· 科學儀器:表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
· 高能物理:射束線、加速器
· 放射線應用:融合系統、回旋
功能和優(yōu)勢
*的轉子技術
· zui大的制程靈活性
· 無油
· 低振動
· 高度可靠
· 免維護
*的控制器設計
· 自動調整
· 自行診斷功能
· 直流電機驅動
· 無電池運行
緊湊型設計
· 占地面積小
· 半機架控制器
技術數據
入口法蘭 | ISO160F |
出口 | KF40 |
抽速 | |
N2 | 650 ls-1 |
H2 | 550 ls-1 |
壓縮比 | |
N2 | >108 |
H2 | >105 |
加熱時的極限壓力(VG/ISO 法蘭) | 6.5 x 10-6 Pa (5 x 10-8 Torr) |
加熱時的極限壓力(ICF 法蘭) | 10-7 Pa (10-9 Torr) |
zui大連續(xù)出口壓力 | 13 Pa (0.1 Torr) |
額定速度 | 35000 rpm |
啟動時間 | 6 分鐘 |
zui高入口法蘭溫度 | 120 °C |
輸入電壓 | 100 至 120 (± 10) V 交流或 |
200 至 240 (± 10) V 交流 | |
啟動時的功耗 | 0.8 kVA |
泵重量 | 31 kg |
控制器重量 | 9 kg |
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