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上海萬庫真空設備有限公司

德國BUSCH普旭真空泵;德國BECKER貝克真空泵;法國Alcatel阿爾卡特真空泵;日本ULVAC愛發(fā)科真空泵

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愛德華STP603愛德華STP603真空泵

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  • 上海萬庫真空設備有限公司
  • 2015-10-15 03:28:32
  • 上海市
  • 796

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【簡單介紹】

Edwards STP603 是新型的渦輪分子泵,可用于的半導體應用。Edwards 的轉子技術可實現*的性能,Z大的制程靈活性。這種泵已經由半導體和磁介質行業(yè)的大型設備制造商投入使用,并得到了認可。

【詳細說明】

 

應用
·         金屬(鋁)、鎢和電介質(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
·         電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
·         薄膜沉積 CVDPECVDECRCVDMOCVD
·         濺射
·         離子注入源,射束線泵送端點站
·         MBE
·         擴散
·         光致抗蝕劑脫模
·         晶體/晶膜生長
·         晶片檢查
·         負載鎖真空腔
·         科學儀器:表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
·         高能物理:射束線、加速器
·         放射線應用:融合系統、回旋
功能和優(yōu)勢
*的轉子技術  
·         zui大的制程靈活性
·         無油
·         低振動
·         高度可靠
·         免維護
*的控制器設計  
·         自動調整
·         自行診斷功能
·         直流電機驅動
·         無電池運行
緊湊型設計  
·         占地面積小
·         半機架控制器
技術數據

入口法蘭
ISO160F
出口
KF40
抽速
  N2
650 ls-1
  H2
550 ls-1
壓縮比
  N2
>108
  H2
>105
加熱時的極限壓力(VG/ISO 法蘭)
6.5 x 10-6 Pa (5 x 10-8 Torr)
加熱時的極限壓力(ICF 法蘭)
10-7 Pa (10-9 Torr)
zui大連續(xù)出口壓力
13 Pa (0.1 Torr)
額定速度
35000 rpm
啟動時間
6 分鐘
zui高入口法蘭溫度
120 °C
輸入電壓
100 120 (± 10) V 交流或
200 240 (± 10) V 交流
啟動時的功耗
0.8 kVA
泵重量
31 kg
控制器重量
9 kg

 
    
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